Huawei Ajukan Paten Sistem Litografi EUV, Bisa Bikin Chip Sub-7nm

JAKARTA - Huawei baru saja mengajukan permohonan paten satu komponen yang digunakan dalam sistem Litografi Extreme Ultraviolet (EUV) yang berguna untuk membuat prosesor kelas atas pada node 7nm (nanometer).

Sistem EUV ini digunakan untuk meningkatkan pembuatan sirkuit dan chipset terintegrasi. Bersama-sama, proses ini akan membentuk pola interferensi yang akan terus berubah dengan sinar cahaya baru.

Akibatnya, ini akan menyamakan paparan cahaya dan akan menyelesaikan masalah cahaya tidak seragam yang sering terjadi dalam pengembangan chip.

Bersamaan dengan sinar cahaya yang seragam, mekanisme ini akan memudahkan pembuatan dan pembentukan partikel nano yang dirangkai dalam sirkuit terpadu atau mikro-chipset.

Selanjutnya, litografi akan melakukan transfer, pemrosesan, dan pembuatan grafik mikro-nano. Ini juga memverifikasi elemen total yang dilengkapi dalam chipset dan memeriksa ukuran yang sesuai dan detail lainnya di sirkuit

Sistem Litografi EUV saat ini dibuat secara eksklusif oleh perusahaan Belanda, ASML dan mengajukan paten serupa (US2016007434A1) pada 2016 namun memiliki ruang lingkup hak paten yang berbeda. ASML tidak diizinkan untuk menjual mesin ini ke China.

Perbedaan antara kedua paten tersebut adalah Huawei menggunakan perangkat iluminasi berputar untuk mengurangi jumlah pola terang atau gelap di area yang sama. Sepertinya, Huawei sangat ingin mengatasinya kekosongan pasar Litografi EUV.

Karena penemuan EUV membantu membawa chip ke simpul proses 7nm dan lebih rendah, paten Huawei dapat membantu Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) China pada akhirnya bersaing dengan TSMC dan Samsung Foundry.

Saat ini, SMIC China diyakini mampu memproduksi chip 7nm untuk penambangan kripto tetapi terbatas pada node proses 14nm untuk chip ponsel cerdas.

Sementara, ASML memungkinkan berkas cahaya yang sama untuk dipisah dan terjadi pada titik yang berbeda untuk menghasilkan cahaya yang seragam. Pada panel datar dan set reflektor yang relatif bergerak dan stasioner.

Tampaknya, paten sistem Litografi EUV ASML bergantung pada prinsip sama dengan bentuk litografi yang lebih tua tetapi menggunakan cahaya dengan panjang gelombang sekitar 13,5nm, yang hampir merupakan sinar-X.

ASML membutuhkan lebih dari 6 miliar euro setara Rp99,9 triliun dan 17 tahun untuk mengembangkan gelombang pertama sistem Litografi EUV yang dapat dijual. Melansir TechBlog, Selasa, 27 Desember, namun sebelum selesai, pemerintah Amerika Serikat (AS) menekan pemerintah Belanda untuk melarang ekspor ke China, membatasi negara tersebut untuk menggunakan teknologi Deep Ultraviolet (DUV) yang lebih tua.

Saat ini, hanya lima perusahaan yang menggunakan atau telah mengumumkan rencana untuk menggunakan sistem Litografi EUV ASML, yakni Intel dan Micron di AS, Samsung dan SK Hynix di Korea Selatan, dan TSMC di Taiwan.

Perusahaan China seperti Huawei sebelumnya dapat mengirim desain mereka ke pabrik seperti TSMC untuk pembuatan dengan Litografi EUV. Namun, sejak AS memberlakukan sanksi terhadap China, hal itu semakin menyulitkan Huawei.

Sementara, perusahaan membutuhkan akses ke node canggih yang menggunakan Litografi EUV untuk terus menyempurnakan prosesor khusus miliknya, yang menargetkan segalanya mulai dari ponsel cerdas hingga pusat data. Jalannya masih panjang sebelum dapat membuat sistem Litografi EUV sendiri, tetapi mereka menerima banyak modal dan dukungan dari pemerintah untuk mencapainya.